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GORE®臭氧化模组由PTFE和PFA材料制成,具有高洁净度。

半导体微电子制程微过滤解决方案 半导体微电子制程微滤膜

就硅晶圆和半导体清洗工艺而言,业内正在改用臭氧水处理方案。这种方案更环保,不涉及昂贵的废物处理,成本比化学混合物清洗工艺更低。可喜的是,戈尔公司(W. L. Gore & Associates)提供的GORE臭氧化模组比目前市场上的溶解臭氧方案更胜一筹,提供目前市场上更洁净、无气泡且浓度更高的臭氧水制备方案。戈尔模组久经验证,是改进半导体晶圆清洗和平板显示器制造工艺、更环保的可靠解决方案。

如需了解更多技术信息,请下载数据表或立即联系戈尔销售代表。

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