半导体和微电子

戈尔技术为整个敏感的制造流程带来进步。

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随着半导体的尺寸越来越小,对于工艺纯度的需求也不断提升。戈尔提供垫片、过滤器和电缆,保持工艺的纯度,另外还有 EUV 光刻技术的全新开发成果,帮助制造商为将来做好准备。

概述

微芯片可以做到多小?数十年以来,随着智能手机、笔记本电脑、LED屏幕和其他电子产品的微芯片越来越小,技术行业的制造商不断压缩半导体的尺寸。半导体的线宽已经从微米挤压到了纳米级别,同时还实现了更高的处理能力和记忆能力。一纳米是一米的十亿分之一,100,000纳米并排才有人类头发直径粗细。 

这是摩尔定律的基础,即一个集成电路上的晶体管数量每两年就会翻一番。戈登·E·摩尔于1965年提出了这个大胆的说法,而时至今日,这条定律都一直生效。

但是,摩尔定律会继续有效吗?可能有两个问题会拖慢半导体的发展脚步:生产更小、更强大的半导体成本高昂,制造和加工半导体时需要更高的纯度。极小的外界微粒就可能对这些微观半导体造成水缺陷;而这样的缺陷可能降低良率,需要成本高昂的维护时间。 

简而言之:随着半导体线宽缩小,生产成本和纯度难度会越来越高。

长期以来,戈尔一直是不断突破这些挑战的技术公司的合作伙伴。我们提供高流率的过滤器、微过滤介质、电缆和各种密封解决方案,保障工艺无缝、安全地进行。我们的聚四氟乙烯(PTFE)材料呈化学惰性,经久耐用,可为半导体制造商提供无可置疑的纯度。

技术行业依赖聚四氟乙烯(PTFE)等含氟聚合物实现清洁度和化学兼容性。随着半导体进一步缩小,制造商将需要在利用聚四氟乙烯(PTFE)薄膜创新方面取得帮助,以便让微芯片变得更智能、更快、更小——而戈尔已经找到了满足这一需求的方法。

着眼未来:EUV 微影技术电缆

半导体的下一个重大新兴科技是远紫外(EUV)微影技术,这种工艺可以在半导体晶圆中刻写更多电路。在光刻技术系统中,光线将图像传输到硅上,就如同照相机利用光线将图像传输到胶片上一样。EUV光刻技术被视作计算机芯片的未来;其可以产生更短的波长,允许在一个芯片上容纳更多电路。

虽然半导体行业仍然需要消除这一新方法带来的挑战,但戈尔正在放眼未来。2009 年,一家光学系统制造商委任戈尔为长期合作伙伴,以便为EUV光刻技术系统运转所必不可少的超高真空、低压和超洁净环境提供适用的电缆组件。 

因为我们从早期即投入开发新EUV工艺使用的电缆接头,我们在制造商采纳新方法时已经做好了协助准备。GORE®电缆降低了集尘问题,提升了系统性能和良率;无屏蔽和化学惰性的电缆是专门针对洁净室使用而设计的。我们针对EUV光刻技术的全新系列电缆组件具有超低释气率,可防止超高真空环境下的组件受到可能导致凝结并污染计算机芯片的排放气体的伤害。我们的电缆质量出众,使戈尔成为市场上少数几家可为EUV光刻技术提供清洁和测试产品的公司之一。 

即使有些制造商尚未准备好采纳EUV光刻技术,戈尔也提供各种实现高性能、高洁净的电缆,包括针对加工设备、测试和测量以及集成的高柔性、高数据率和微波射频电缆。

基于纯度的产品组合

由于半导体尺寸极小,即使最轻微的污染也可能损害其性能。 

戈尔的材料能让半导体加工环境保持洁净。通过采用聚四氟乙烯(PTFE)作为基础,我们的材料呈化学惰性,可耐受极端温度,并且经久耐用。我们的产品普遍比竞争对手的产品更小、更轻,是提升工艺良率和减少停机时间,以及成本的知名产品。

除了电缆和电缆组件之外,我们还提供:

  • 高流率、高保留率的液体过滤器,可滤出高纯度的水、高纯度的化学品和工艺点材料。从制造到使用或分销阶段全过程,这些过滤器可以提升净化液体的完整性,还可提供嵌入式保留升级,而无需牺牲工艺效率。
  • 用于磁盘驱动器的粒子过滤器,主动保护手机、全球定位系统(GPS)、笔记本电脑等产品免受外界微粒、蒸汽和化学品的影响。
  • 微滤过滤介质,提供薄膜和层压两种形式,可以集成到各种过滤外壳系统中。这些介质可支持当今微电子行业性能最高的过滤器。
  • 屏蔽解决方案,例如板状垫片、密封垫片、带状垫片和GORE®接口密封件。每种产品均完全以膨体聚四氟乙烯(ePTFE)制造,具有高抗蠕变和抗冷流性能,因此将一直保持固定,可靠密封。

30多年来,戈尔一直是全球技术创新领先企业的主要合作伙伴,为高标准、严要求的工艺提供戈尔品质的纯度。随着行业不断适应技术趋势的变化——智能手机和可穿戴设备越来越小,需要最小的半导体芯片——我们也将不断创新,向技术公司提供关键的产品和支持,帮助他们缩小产品,提升利润。