随着半导体的尺寸越来越小,对于工艺纯度的需求也不断提升。戈尔提供垫片、过滤器和电缆,保持工艺的纯度,另外还有 EUV 光刻技术的全新开发成果,帮助制造商为将来做好准备。

概述

微芯片可以做到多小?数十年以来,随着智能手机、笔记本电脑、LED屏幕和其他电子产品的微芯片越来越小,技术行业的制造商不断压缩半导体的尺寸。半导体的线宽已经从微米挤压到了纳米级别,同时还实现了更高的处理能力和记忆能力。一纳米是一米的十亿分之一,100,000纳米并排才有人类头发直径粗细。 

这是摩尔定律的基础,即一个集成电路上的晶体管数量每两年就会翻一番。戈登·E·摩尔于1965年提出了这个大胆的说法,而时至今日,这条定律都一直生效。

但是,摩尔定律会继续有效吗?可能有两个问题会拖慢半导体的发展脚步:生产更小、更强大的半导体成本高昂,制造和加工半导体时需要更高的纯度。极小的外界微粒就可能对这些微观半导体造成水缺陷;而这样的缺陷可能降低良率,需要成本高昂的维护时间。 

简而言之:随着半导体线宽缩小,生产成本和纯度难度会越来越高。

长期以来,戈尔一直是不断突破这些挑战的技术公司的合作伙伴。我们提供高流率的过滤器、微过滤介质、电缆和各种密封解决方案,保障工艺无缝、安全地进行。我们的聚四氟乙烯(PTFE)材料呈化学惰性,经久耐用,可为半导体制造商提供无可置疑的纯度。

技术行业依赖聚四氟乙烯(PTFE)等含氟聚合物实现清洁度和化学兼容性。随着半导体进一步缩小,制造商将需要在利用聚四氟乙烯(PTFE)薄膜创新方面取得帮助,以便让微芯片变得更智能、更快、更小——而戈尔已经找到了满足这一需求的方法。

着眼未来:EUV 光刻技术电缆

半导体的下一个重大新兴科技是EUV光刻技术,这种工艺可以在半导体晶圆中刻写更多电路。在光刻技术系统中,光线将图像传输到晶圆上,就如同照相机利用光线将图像传输到胶片上一样。EUV光刻技术被视作计算机芯片的未来;其可以产生更短的波长,允许在一个芯片上容纳更多电路。

虽然半导体行业仍然需要消除这一新方法带来的挑战,但戈尔正在放眼未来。2009 年,一家光学系统制造商委任戈尔为长期合作伙伴,以便为EUV光刻技术系统运转所必不可少的超真空、低压和超洁净环境提供适用的电缆组件。

因为我们从早期即投入开发新EUV工艺使用的电缆接头,我们在制造商采纳新方法时已经做好了协助准备。GORE®电缆降低了集尘问题,提升了系统性能和良率;无脱落和化学惰性的电缆是专门针对洁净室使用而设计的。我们针对EUV光刻技术的全新系列电缆组件具有超低释气率,可防止在超真空环境下电缆组件释放出的气体凝结污染计算机芯片。我们的电缆质量出众,使戈尔成为市场上少数几家可为EUV光刻技术提供清洁和测试产品的公司之一。

即使有些制造商尚未准备好采纳EUV光刻技术,戈尔也提供各种实现高性能、高洁净的电缆,包括针对加工设备、测试和测量以及集成的高柔性、高数据率和微波射频电缆。

基于纯度的产品组合

由于半导体尺寸极小,即使最轻微的污染也可能损害其性能。 

戈尔的材料能让半导体加工环境保持洁净。通过采用聚四氟乙烯(PTFE)作为基础,我们的材料呈化学惰性,可耐受极端温度,并且经久耐用。我们的产品普遍比竞争对手的产品更小、更轻,是提升工艺良率和减少停机时间,以及成本的知名产品。

除了电缆和电缆组件之外,我们还提供:

  • 微滤过滤介质,提供薄膜和层压两种形式,可以集成到各种过滤外壳系统中。这些介质可支持当今微电子行业性能最高的过滤器。
  • 密封 解决方案,例如板状垫片、密封垫片、带状垫片和GORE®接口密封件。每种产品均完全以膨体聚四氟乙烯(ePTFE),具有高抗蠕变和抗冷流性能,因此将一直保持固定,可靠密封。

35多年来,戈尔一直是全球技术创新领先企业的主要合作伙伴,为高标准、严要求的工艺提供戈尔品质的纯度。随着行业不断适应技术趋势的变化——智能手机和可穿戴设备越来越小,需要最小的半导体芯片——我们也将不断创新,向技术公司提供关键的产品和支持,帮助他们缩小产品,提升利润。

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